Раздел
|
Электроника, радиотехника
|
Программа
|
Новые материалы и технологии-2010
|
Область применения
|
Предприятия радиоэлектронной промышленности.
|
Описание продукции
|
Разработана технология получения пористого материала на металлической основе (ИСПФ 01265.02297) для вакуумных планшайб при обработке полупроводниковых пластин, который обладает твердостью 730 HV100/15 и износостойкостью 0,12 мкм/км. Изготовлены опытные партии пористых вставок и вакуумных планшайб, проведены их приемочные испытания, на основании которых технологической документации присвоена литера «О1».
|
Конкуренто- способность
|
Применение вакуумных планшайб с пористыми вставками из оксинитрида титана для шлифования полупроводниковых пластин позволит сократить импорт, сэкономить энергетические и материальные ресурсы за счет исключения сложной механической обработки корпуса вакуумных планшайб.
|
Ожидаемые результаты применения
|
Применение вакуумных планшайб с пористыми вставками из оксинитрида титана для шлифования полупроводниковых пластин позволит производить их съем роботом-манипулятором, увеличить производительность процесса шлифования пластин на 10 % и снизить себестоимость готовой продукции (пластин) на 5 %.
|
Предложения по реализации
|
Реализация продукции на договорной основе, организация серийного производства при наличии заказчиков.
|
Степень готовности
|
Опытная партия.
|
Объект передачи прав
|
Изобретение.
|
Форма передачи прав
|
Договор о создании и использовании результатов интеллектуальной деятельности, договор купли-продажи.
|
Предложения по сотрудничеству
|
Инвестиции, совместные НИОК(Т)Р, совместное производство.
|